SSX600系列光刻机 SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。SSB50

光刻机巨头ASML公布了其最新的品牌短片《站在巨人的肩膀上》:荷兰光刻机：ASML使用AI工具midjourney和runway制作宣传片这个时长1分50秒短片的特别地方在于，它是完全由生成式人工智能工具制作的。新闻稿写道，公司在整个影片的制作过程中结合使用了Midjourney、Runway和Stable

现场图曝光！ASML第一台2nm光刻机正式交付Intel：组装起来比卡车还大投递人 itwriter 发布于 2023-12-2509:07 评论(1) 有399人阅读 原文链接 [收藏] « »快科技12月24日消息，近日，荷兰光刻机巨头ASML公司宣布，优先向Intel公司交付其新型高数值孔径（HighNAEU

(文章目录)光刻机是半导体工艺制造中非常重要的设备之一，它是用来制作微细结构的关键工具之一。相信大家都知道，半导体工艺中最小的制造单位是晶体管，而制造晶体管需要非常精细的制造工艺。其中，光刻技术是很关键的。能制造出光刻机的企业，通常在半导体制造行业中有着非常重要的地位。

荷兰半导体出口管制措施已于今日（9月1日）正式生效。针对此举，荷兰芯片制造设备巨头艾司摩尔（ASML）透露，已获得荷兰官方的授权，允许其在年底前持续向中国客户出售半导体制造设备，这一决定将不会影响已有的订单发货。依据中国日报和路透社的报道，ASML表示，荷兰政府已经颁发了截至9月1日的所需许

光刻机是半导体工业中至关重要的设备，用于将芯片设计图案投影到硅片上，从而形成微小的电路图案。虽然光刻技术在过去几十年里取得了巨大的进步，但在当前的制造过程中仍然面临一些挑战和难题。以下是光刻机所面临的一些主要难题：分辨率与微缩化要求：半导体行业对芯片性能和密度的要求不

《日本佳能推出5纳米光刻机，国产光刻机却爆雷：弯道超车失败了？》      https://mbd.baidu.com/newspage/data/videolanding?nid=sv_11518828072802699512&sourceFro

最近几年，鉴于国际环境的情况，国内芯片产业大力发展，芯片产业的发展离不开光刻机等设备，在市场巨大的需求下，诚翔滤器推出了新一代的光刻机滤芯产品。诚翔滤器特别推荐使用PEmfl

ASML-晶圆代工分析参考文献链接https://zhuanlan.zhihu.com/p/573538717https://www.zhihu.com/question/355944411/answer/2778155448https://zhuanlan.zhihu.com/p/5

芯片-光刻机-adas技术分析 参考文献链接https://mp.weixin.qq.com/s/uOxTaDlAPIwyWJfN5XrtxQhttps://zhuanlan.zhihu.com/p/581951550?utm_campaign=shareopn&utm_medi