最近几年，鉴于国际环境的情况，国内芯片产业大力发展，芯片产业的发展离不开光刻机等设备，在市场巨大的需求下，诚翔滤器推出了新一代的光刻机滤芯产品。
诚翔滤器特别推荐使用P Emflon过滤器对与PTFE和高密度聚乙烯（HDPE）兼容的光刻胶和化学品进行批量过滤。此外，它还采用了鲍尔过滤技术的最新进展：新月形的Ultipleat过滤器配置。
·配置范围广
·高流速
·完整性可测试
·低萃取物
·优化设计
·在洁净室环境中制造
·100% 完整性测试
具有代表性的示例部件号
诚翔滤器ABD1UFE3EJ 诚翔ABD1UFC3EJ 诚翔滤器ABD1UFR3EH1 诚翔滤器ABD1UFT3EH1 ABD1UFT7EH1光刻机滤芯滤清器 ABD1UFT8EH1 光刻机过滤器ABD1UFD3EH1 半导体诚翔滤器ABD1UFD8EH1
诚翔滤器化学过滤ABD4UND7EH1
兼容的光刻胶和化学品的批量过滤诚翔ABD4UND7EH1
ABD1UNI3EH1
ABD1UNI7EH1
MRD1UNI3EH1
ABD2UNI3EH1
ABD2UNI7EH1
ABD2UNI8EH1
ABD3UNI3EH1
ABD3UNI8EH1
ABD4UNI7EH1
ABD1ANM3EH1诚翔滤器超纯水过滤过滤器ABD1ANM8EH1滤芯
不对称P-尼龙过滤器利用经过验证的减少缺陷的尼龙膜，但配置为新的不对称孔几何形状。这种锥形孔设计具有开放的上游结构和精细的下游区域，允许过滤去除率低至 20 nm，压差非常低。
关键使用点超纯水应用的理想选择
天然亲水性（无表面改性）
快速冲洗
低萃取物
在洁净室环境中制造
通过筛分和吸收减少缺陷
完整性可测试
ABD1UND3EH1
ABD1UND7EH1
ABD2UND3EH1
ABD2UND7EH1
ABD2UND8EH1
ABD3UND3EH1
ABD3UND8EH1
ABD4UND7EH1
结构材料
组件 材料
过滤介质 聚四氟乙烯
支撑和排水 高密度聚乙烯
核心和保持架 高密度聚乙烯
端盖 高密度聚乙烯
O型圈选项 FEP 封装氟橡胶、有机硅、卡雷斯1、耐酸氟橡胶、三元乙丙橡胶
ABF04NTD23EH11诚翔滤器光刻过滤器ABF1NTD23EH11诚翔滤器光刻过滤器ABF2NTD23EH11滤芯Emflon过滤器
ABF04NTD23EH11诚翔滤器光刻过滤器ABF1NTD23EH11诚翔滤器光刻过滤器ABF2NTD23EH11滤芯Emflon过滤器
诚翔滤器提供用于前沿工艺的光刻滤光片
PhotoKleen™ NTD滤芯专为腐蚀性有机溶剂应用而设计。
PhotoKleen™ NTD滤光片由所有含氟聚合物材料组成，与更具腐蚀性的光刻溶剂（如乙酸正丁酯（nBA）、环己酮、二丁醚、甲苯和γ-丁内酯）具有优异的化学相容性。
5 nm 额定 PTFE 介质提供高颗粒截留率，同时保持低压降。
好处
提供较低的流量 delta-P，以最大限度地减少 ESD 和气泡形成
干运，用于有机光刻溶剂
关于诚翔滤器
诚翔滤业有限公司是气体、液体过滤器的专业研发、生产制造厂商。成立于2001年，位于京、津、冀经济三角区内的固安工业开发区。公司引进了先进的生产设备和技术，对滤清器方面的技术研究、新产品的开发和产品质量的提高打下了良好的基础。产品广泛应用于建筑、石油化工、矿山、冶金、电厂、交通、电子、制药、食品、烟草等领域，其用途涉及到民用、商用、医用、工业用、军用，文物馆、博物馆等其他特殊场合。
秉着真诚与精益求精的服务态度，不断的更新设备，重薪聘请高端技术人员，力求把最优质的产品销售给顾客，让顾客安心的使用专力牌滤清器，顾客的满意就是我们不断进取的动力。
