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DC-设计和工艺数据-02

时间:2023-12-17 19:00:18浏览次数:29  
标签:02 文件 -- DC design 工艺 ddc 网表

在 compile之前保存ddc设计文件

  • check design - 检查文件的连接性和物理性
  • check design之后可以将未映射的网表写出,如果是几十万级的RTL,如果不写出,设置约束出现问题,更改之后,前面的流程需要重新进行,花费时间
  • check design之后写出未映射的网表,再读入约束,方便进行调整约束,可以直接读入ddc文件,节省时间

在compile之后保存ddc

  • ddc - 二进制文件,存储网表,约束,属性

测试

  • 链接期间不会找目标库,目标库是在映射期间进行查找的
  • CWD - 当前项目的路径(包含rtl,cons...),也是当前的dc启动的路径,link的时候会查找
  • link libraries - 会解析
  • search path - 会解析
  • DC memory - dc内存
  • 在进行link之前需要读入rtl,read_verilog命令作用:读入GTECH网表,读入RTL将其转换为未映射的网表;将RTL添加到DC内存;加载link库
  • 查找顺序:DC memory --> .db
  • 查找不到,ddc会自动加载
  • ddc文件可以自动进行添加,添加的路径搜素顺序:search path中的顺序:CWD-->default search path --> appended search path

  • z_box是ddc形式的,那么会在search path找
  • lib cell z_box是库文件 - 在link library找
  • z_box.v - read_verilog读入,在dc memory中进行寻找
  • design z_box - 已经加载到dc内存中的z_box文件
  • library design z_box - link library中进行寻找

  • DC memory --> link_library --> search path,使用IP.db中的z_box
  • .ddc文件自动加载,文件名必须和RTL中一致

  • B选型 - 使用文件列表,默认第一个作为current_design
  • C - 依次读取design - 默认最后一个作为current_design
  • D - 所有design在一个文件中,第一个module作用current design
  • 保留unmapped ddc文件方便修改时序后的约束

  • ddc文件 - 包含网表和约束
  • T2不含约束,T3包含约束
  • T1是未综合的RTL,T4是综合之后的网表
  • T3是未映射的网表,T5是映射的网表
  • T6中保存的module,就是current design,top
  • -hier:加这个选项,会保留设计层级
  • 保存在当前路径下

  • 可以修改parameter值
  • analyze+elaborate - 不能读取ddc
  • a,c,d

使用拓扑模式进行综合

  • out1和out2都是有三个扇出,使用WLM模式进行综合,得到的RC可能是一样的,但是实际上是不一样的,所以考虑使用拓扑模式进行综合
  • WLM综合 --> ICC布局布线 --> 物理信息 --> 拓扑模式综合

双通道topo模式综合流程


Milkyway参考库

  • WLM模式下的模型 - LM
  • CEl - cell库,包含所有standcell的形状及引脚的位置,包含全部信息及内部引脚的互联
  • FRAM - CEL的简化,指包含引脚的位置

布局视图和抽象视图

什么是标准单元库

  • standcell - 是全定制的设计,其中N well和P Well都是设计好的
  • standcell - 有固定的高度,方便布局布线;上层是VDD,下层是GND
  • 工艺确定之后,标准单元库就确定了

技术文件(Technology File)(.tf file)




  • 走线越靠近上方,走线越宽

TLUPlus files

层映射文件(Layer mapping file)

首次加载物理技术数据

  • mw_reference_library - 设置milkyway library

重新加载现有的设计



默认的布局约束 - 第一次综合

  • 方核放置区 - 长宽一致

修改布局(FP)约束 - 第一次综合

  • 可以对于IP和RAM的位置进行指定

定义相对核心形状:Aspect ratio

  • Aspect ratio - 长/宽

定义相对核(relative core)的大小:利用率

  • 利用率越高,拥塞程度会增加
  • total area = cell area/utilization(利用率),利用率越高,total area越小

定义精确的矩形区域

  • 指定左下角坐标和右上角坐标,比较适合于设计大的SoC

实例










定义相对端口侧



定义确切的端口,宏和阻挡区

  • 在RAM的四周设置Blockage,RAM周围会布很多的线,会导致拥塞或者short,在Blockage中不能摆放standcell


DC-T物理约束

加载实际平面约束-第二次综合

典型的DC-T流程:编译前的准备

方便的替代设置文件


DC-T测试

  • a x - DC-T是没有LM模型的
  • b x - 不精准的布线
  • c √
  • d √
  • e x - 不是创建精准的floorplan
  • milkyway参考库 - standcell\IO\pin
  • 设计库 - 设计的物理信息

变量总结:定义逻辑库

命令总结:加载逻辑数据

命令总结:加载物理数据

命令总结:物理约束

总结

标签:02,文件,--,DC,design,工艺,ddc,网表
From: https://www.cnblogs.com/Icer-newer/p/17909288.html

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