• 2024-09-10TPAMI 2024 | 基于框驱动掩模和填充率偏移的弱监督语义分割
    题目:WeaklySupervisedSemanticSegmentationviaBox-DrivenMaskingandFillingRateShifting基于框驱动掩模和填充率偏移的弱监督语义分割作者:ChunfengSong;WanliOuyang;ZhaoxiangZhang源码链接:https://github.com/developfeng/BCM摘要语义分割通过采用深
  • 2024-07-05实现了对图像的亮度、对比度、饱和度的调整以及添加高光效果
    读取原始图像:使用cv2.imread()函数从指定路径读取一张图片,并将其存储在变量image中。创建光照掩模:生成一个与原图大小相同但完全黑色的图像(使用np.zeros_like()),这将作为后续光照效果的基础。定义光照中心点:确定光照效果的中心位置,默认为图像的几何中心。创建圆形光照区
  • 2024-04-02DMKD: IMPROVING FEATURE-BASED KNOWLEDGE DISTILLATION FOR OBJECT DETECTION VIA DUAL MASKING AUGMENTAT
    摘要最近主流的掩模蒸馏方法是通过从教师网络的特征图中重建学生网络的选择性掩模区域来实现的。在这些方法中,需要适当的选择掩模区域,使重构的特征像教师特征一样具有足够的识别和表示能力。然而,以前的掩模蒸馏方法只关注空间掩模,使得得到的掩模区域偏向于空间重要性,而没有
  • 2023-10-24如何制作CPU
    1.找一块石头2.打碎石头我已经做到这一步了,2/19=10%的进度了3.现在你有了98%的浓缩二氧化硅,将其纯化至99.9%4.进一步提纯至99.9999999%的多晶硅金属5.将多晶硅锭放入坩埚中6.将硅锭加热至1698°K7.取一小块单晶晶种并将其浸入装有熔融硅的槽中8.当晶
  • 2023-07-27科技硬货
    光刻机是半导体工业中至关重要的设备,用于将芯片设计图案投影到硅片上,从而形成微小的电路图案。虽然光刻技术在过去几十年里取得了巨大的进步,但在当前的制造过程中仍然面临一些挑战和难题。以下是光刻机所面临的一些主要难题:分辨率与微缩化要求:半导体行业对芯片性能和密度的要求不
  • 2023-07-08记录--在高德地图实现卷帘效果
    这里给大家分享我在网上总结出来的一些知识,希望对大家有所帮助介绍今天介绍一个非常简单的入门级小案例,就是地图的卷帘效果实现,各大地图引擎供应商都有相关示例,很奇怪高德居然没有,我看了下文档发现其实也是可以简单实现的,演示代码放到文末。本文用到了图层掩模,即图层遮罩,让图
  • 2022-10-13【知识普及】芯片制造:从沙子到半导体IC
    视频观看(15分钟)​​https://v.qq.com/x/page/b32539f3qkx.html​​   所有的芯片都是从一种非常简单的原材料开始:沙子。需要复杂的化学和物理过程才能从沙子中制造出
  • 2022-10-11立体相机开发|几何感知的实例分割
    点击上方“3D视觉工坊”,选择“星标”干货第一时间送达论文下载:​​http://www-scf.usc.edu/~choyingw/works/GAIS-Net/WSAD/CVPRW_CameraReady.pdf​​代码下载:​​https://