1月5日，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室（LLNL）在激光技术领域取得了重大进展。该实验室正在全力研发一种基于铥元素的拍瓦（petawatt）级激光技术，这一技术犹如一颗璀璨的新星，在芯片制造领域引发了广泛的关注和期待。目前，极紫外光刻（EUV）工具在芯片制造中扮演着至关重要的角色，其中二氧化